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VSParticle 納米粒子發生器

更新時間:2023-11-15
產品型號:VSP-G1
所屬分類:VSParticle
描述:VSP-G1 納米粒子發生器是一臺桌面式儀器,用于生成尺寸范圍為 1 – 20 nm 的純金屬、金屬氧化物或合金納米氣溶膠材料。納米顆粒的生產在氣相中進行,因此無需使用表面活性劑或前驅體。用于納米粒子生產的源材料是由所需材料制成的兩根靶材(電極)。使用時只需安裝電極并設置參數,按下按鈕即可開始生成納米粒子。
詳情介紹

獲得不同組分的納米材料是納米研究的關鍵,利用VSP-G1配合不同的電極可以產生雙金屬、納米合金或在塊狀狀態下不混溶的材料等粒子?;鸹g可以在放電通道產生高達20000K的瞬時高溫,足以克服塊體材料的宏觀不溶性,產生更多的材料可能性?;旌蟽蓚€純電極或使用合金電極可以通過成分控制調整材料組分。類似地,通過并聯或串聯運行兩個 VSP-G1,每個 VSP-G1 使用不同的電極材料,最終產生分層結構的材料(例如,分層結構、核-殼或異質結構)


多樣化沉積.JPG.png


VSP-G1 最有價值的一點是能夠調整所生產納米粒子的平均粒徑。這是通過改變氣體流速來實現的,當然這會影響納米顆粒在反應器內的停留時間。 較低的流速通過為初級顆粒提供更多的時間來凝并,從而導致較大的平均粒徑,而較快的流速可產生較小的顆粒。根據準備的樣品類型(例如 TEM 網格或多孔涂層),還可以調整總功率以改變產率。更高的電壓/電流組合帶來更高的燒蝕率和更大的顆粒。 氣溶膠技術區別與其它真空氣相技術的最大特點便是在常壓下利用氣體有效影響納米顆粒的生長與傳輸過程。


VSP-G1-功能_1.png


采用模塊化設計,VSP-G1 納米粒子發生器可輕松與沉積裝置結合使用,以制備先進的納米材料。基于擴散、過濾或沖擊技術,有不同的沉積模塊可用。


VSP-G1-功能_2.png


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